產(chǎn)品中心
- 微量注射泵
- smoothflow隔膜泵
- 蠕動(dòng)泵
- 動(dòng)物麻醉機(jī)
- 動(dòng)物呼吸機(jī)
- 細(xì)胞融合儀
- 熒光蛋白觀察
- 痛覺(jué)測(cè)試儀
- 顯微操作
- 腦立體定位儀
- 行為學(xué)研究?jī)x器
- 動(dòng)物溫度控制系統(tǒng)
- 動(dòng)物手術(shù)設(shè)備
- 動(dòng)物手術(shù)器材
- 清醒無(wú)束縛動(dòng)物采血給藥系統(tǒng)
- 膜片鉗系統(tǒng)
- FST手術(shù)器械
- 動(dòng)物血壓測(cè)量分析系統(tǒng)
- 動(dòng)物監(jiān)護(hù)儀
- 動(dòng)物顱腦損傷
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹:
微電極拋光儀BV-10(Microelectrode Beveler)用于打磨拉制好的玻璃微電極尖兒端,主要是將尖兒端打磨成斜面,使電極更尖,同時(shí)使電極開(kāi)口變大,一方面在進(jìn)行細(xì)胞內(nèi)記錄時(shí)有利于電極刺入細(xì)胞,一方面在進(jìn)行細(xì)胞內(nèi)注射時(shí)有利于注射物質(zhì)進(jìn)入細(xì)胞。電阻測(cè)量?jī)x可以在打磨完成后對(duì)電極電阻進(jìn)行測(cè)量。
詳情介紹:
電極拉制成功后,其尖兒端必須作優(yōu)化處理,如用熱拋光的方法使電極尖兒端光滑,周?chē)鶆?以提高實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的封接成功率.微電極拋光儀BV-10 或電極熔鍛儀就是為了實(shí)現(xiàn)上述操作處理而設(shè)計(jì)的.微電極拋光儀基本組成部件包括:一臺(tái)顯微鏡,附有兩種高低放大倍數(shù)的物鏡,分別作涂敷和熱拋光之用.
用途:
用于細(xì)胞內(nèi)記錄,打磨后可降低電極電阻,同時(shí)幫助電極刺入細(xì)胞(尤其是小細(xì)胞)。用于細(xì)胞內(nèi)注射,減小對(duì)細(xì)胞的損傷,促進(jìn)注射物質(zhì)進(jìn)入細(xì)胞

技術(shù)參數(shù)
- 可拉制電極尖兒端少于0.3微米
- 三組數(shù)字準(zhǔn)確控制熱力和拉力
- 加熱絲分別為鉑金/銥金絲和錫烙合金絲
- 主機(jī)采用防銹物料制造
- 體積小,適合細(xì)小空間
- 適合微注射研究
- 根據(jù)選擇的打磨盤(pán)不同,可打磨口徑0.1-50μm的玻璃電極
- 打磨盤(pán)無(wú)振動(dòng),表面有磁力耦合。
- 大磨盤(pán)表面為半波長(zhǎng)(250nm)光學(xué)平面。
- 同步鐘電動(dòng)機(jī)確保穩(wěn)定轉(zhuǎn)速。
- 7磅重的底座增大了振動(dòng)阻尼。
- 配有鹵素?zé)簟?/span>
- 配有微操縱器,控制打磨的精度與角度。
- 打磨的差異:小于1.0μm
- 打磨速度:60RPM
- 打磨角度:5-90度可調(diào)
- 微操:粗調(diào)1.9mm,微調(diào)0.01mm
- 可選配體式顯微鏡(80x)和電極電阻測(cè)量?jī)x
- 電極電阻測(cè)量?jī)x測(cè)量范圍:0-10,0-100,0-500Ω
- 有多種型號(hào)選擇:BV-10-B(打磨儀),BV-10-C(打磨儀與電阻測(cè)量?jī)x),BV-10-D(配有顯微鏡的打磨儀),BV-10-E(配有顯微鏡的打磨儀與電阻測(cè)量?jī)x)。